• Resina Estelite Posterior
Resina Estelite Posterior

Resina Estelite Posterior

Seringa de 4,2g.

TOKUYAMA

PA1Cód. 20032
Qtd:
PA2Cód. 20117
Qtd:
PA3Cód. 20104
Qtd:
PCECód. 20103
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Descrição:

Resina Estelite Posterior

A resina da Tokuyama Estelite Posterior foi desenvolvida para casos onde ocorra intensa ação mecânica sobre a estrutura dentária. Possui baixo índice de contração o que permite maior longevidade à restauração. Suas partículas Supra-nanométricas esféricas e monodispersas garantem melhor brilho, rápida fotopolimerização e perfeita adaptabilidade à cavidade dentinária.

Estelite Posterior é uma resina composta fotopolimerizável e radiopaca, utilizada para restaurações posteriores. ESTELITE POSTERIOR contém 84% em peso (70% em volume) de material de enchimento sílica-zircônio (tamanho médio das partículas: 2 μm; faixa de tamanho das partículas: 0,1 a 10 μm).

A elevada quantidade de carga reduz a contração de polimerização. A matriz do monômero contém Bis-GMA, trietileno-glicol-dimetacrilato (TEGDMA) e Bisfenol A polietoxymetacrilato (Bis-MPEPP). ESTELITE POSTERIOR utiliza a tecnologia de iniciador de fotopolimerização amplificada por radical (tecnologia RAP). O tempo de polimerização pode ser reduzido a um terço em comparação com as resinas compostas tradicionais se utilizar uma lâmpada de fotopolimerização de comprimento de onda entre os 400 e os 500 nm (valor de pico: 470 nm).

Indicação:

  • Restaurações de Posteriores (incluindo a face oclusal);
  • Restaurações em Porcelana e Compósitos;
  • Pacientes com bruxismo, alto desgaste.

Características:

  • Resina composta com alta resistência mecânica para posteriores.
  • Ótima para reconstruções em blocos únicos de resina.
  • Efeito camaleão de altíssimo alcance (6 tonalidades).
  • Estética Oclusal de alta classe.
  • Tonalidades para uso em blocos únicos ou estratificação completa posterior.
  • Carga Supra-nanométricas Monodispersas Esféricas – 84% peso (70% volume).
  •  Resistência flexural e à compressão.
  • Rápido tempo de cura, tecnologia e patente RAP©.
  • Baixa sensibilidade à luz ambiente/refletor.
  • Polimento potencializado.
  • Fotopolimerização de 10/15 segundos.
  • Não grudenta.
  • Tecnologia RAP | Patente Tokuyama.
  • Boa Radiopacidade.
  • Partículas Esféricas.